軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)，膠囊內(nèi)顆粒研磨分散機(jī)，頭孢混懸液納米乳化機(jī)，德國(guó)藥用衛(wèi)生級(jí)膠體磨，醫(yī)用納米均質(zhì)機(jī)

軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)，此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤(pán)，先研磨后分散，物料粒徑更細(xì)，更穩(wěn)定!

軟膠囊制劑多用于非水溶性、對(duì)光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴(yán)密、用量jingque、生物利用度高，藥物的穩(wěn)定性也得到提升，此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實(shí)驗(yàn)證明，口服制劑的生物利用度，以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊，混懸液次之，再次為含顆粒的硬膠囊，zui差為片劑。

粉碎技術(shù)逐漸應(yīng)用到軟膠囊領(lǐng)域，通過(guò)研究發(fā)現(xiàn)，藥材經(jīng)過(guò)超微化粉碎后，粉末粒徑大小分布均勻，球性度和均質(zhì)度明顯改善，這些細(xì)粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當(dāng)中，質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展，對(duì)于膠囊的內(nèi)容物的處理，出現(xiàn)的大量的設(shè)備，如:膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)等。這些設(shè)備通過(guò)對(duì)內(nèi)容物的剪切，從內(nèi)容物粒徑更加細(xì)化，粉末分散更加均勻。而應(yīng)對(duì)這種情況，研發(fā)出了的設(shè)備，改良性膠體磨，該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī)的特點(diǎn)，將二者一體，形成的設(shè)備，我們也將它定義為“研磨分散機(jī)”。

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大，效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好)

4 物料在研腔體的停留時(shí)間，研粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好)

5循環(huán)次數(shù)(越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好)

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。剪切速率 s-1v 速率 m/s

g 定-轉(zhuǎn)子 間距 m

由上可知，剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。

IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V 3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/ 60

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品

一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是;在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是 轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn),工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出最終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的座擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有jingxi度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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