Nicomp 380 激光粒徑滴定儀
基本概述：
Nicomp 380 DLS是納米粒徑分析儀器，采用現(xiàn)在的動態(tài)光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很準(zhǔn)確的分析比較復(fù)雜多組分混合樣品。為實驗室的研究提供的分析技術(shù)。 測試范圍：0.3 nm – 10μm。
產(chǎn)品介紹：
Nicomp 380 DLS 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品的。
激光粒徑滴定儀?工作原理：
動態(tài)光散射法(DLS)，有時稱為準(zhǔn)彈性光散射法（QELS），是一種成熟的非侵入技術(shù)，可測量亞微細(xì)顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布，使用新技術(shù)，粒度可小于1nm。 動態(tài)光散射法的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運動，造成散射光光強的波動。 分析光強的波動得到顆粒的布朗運動速度，再通過斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的粒度。
激光粒徑滴定儀 器參數(shù)：
粒徑測量范圍 | 粒度分析：0.3 nm - 10μm |
分析方法 | 粒度分析：動態(tài)光散射，Gaussian 單峰算法和 NiComp 無約束自由擬合多峰算法 |
pH值范圍 | 2 - 12 |
溫度范圍 | 0℃ - 90 ℃ |
檢測角度（可選） | 粒度分析：90°或 多角度（10°- 175°，可選配） |
高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
可用溶劑 | 水和大多數(shù)溶劑 |
樣品池 | 4 mL（標(biāo)準(zhǔn)，石英玻璃或玻璃）； 500μL（高透光率微量樣品池） |
分析軟件 | Windows 運行環(huán)境，合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件 |
電壓 | 220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
重量 | 約26kg（與配置有關(guān)） |
激光粒徑滴定儀 配件：
大功率激光二管 | PSS使用一系列大功率激光二管來滿足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便從小粒子出貨的的入射光。 15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波長為635nm 的紅色二管。 20 mW 50 mW 和 100 mW 波長為 514.4nm的綠色二管。
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雪崩光電二管檢測器（APD Detector） | 提供比普通光電管(PMT)高20倍的靈敏度。 |
Zeta 電位模塊 | Zeta電位是確定交替系統(tǒng)穩(wěn)定性的重要參數(shù)，決定粒子之間靜電排斥力大小，影響粒子間的聚集作用及分散系的穩(wěn)定。該模塊使用電泳光散射（ELS）技術(shù)，通過測量帶點粒子在外加電場中的移動速度，即電泳遷移率、推算出Zeta電位，實現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位，實現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位測定的同機操作。
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自動稀釋系統(tǒng)模塊 | 將初始濃度較高的樣本自動稀釋至可檢測的的濃度，可稀釋初始固含量為50%的原始樣品，本模塊收保護，其可免除人工稀釋樣品帶來的外界環(huán)境的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差，此技術(shù)被用于批量進樣和在線檢測的過程中。
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多角度檢測系統(tǒng)模塊 | 提供多角度的檢測能力。使用高的步進電機和針孔光纖技術(shù)可對散射光的接收角度進行調(diào)整，可為微粒粒徑分布提供可高分辨率的多角度檢測。對高濃度樣品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至175度之間不同角度上散射光的采集和檢測。
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自動進樣器 | 批量自動進樣器能實現(xiàn)多76個連續(xù)樣本的分析而無需操作人員的干預(yù)。因此它是一個好的質(zhì)量控制工具，能樣品的處理量。大大節(jié)省了寶貴的時間。
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自動滴定模塊 | 樣品的濃度及PH值是Zeta電位的重要參數(shù)，搭配瑞士萬通的滴定儀進行檢測，真正實現(xiàn)了自動滴定，自動調(diào)節(jié)PH值，自動檢測Zeta電位值。免除外界的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差，分析出樣品Zeta電位的趨勢。
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激光粒徑滴定儀 應(yīng)用領(lǐng)域：
適用于檢測懸浮在水相和相的顆粒物。
1）磨料
磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現(xiàn)對硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。
2）化學(xué)機械拋光(CMP)
化學(xué)機械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟。化學(xué)機械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計，對晶片質(zhì)量。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機械拋光加工過程的順利進行。
3）陶瓷
陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用廣泛，從磚瓦到生物材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以地控制終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。
4）粘土
粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似，但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。
5）涂料
涂料種類繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。
6）污染監(jiān)測
粒度檢測分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測方面起著重要作用，產(chǎn)品的污染對產(chǎn)品的質(zhì)量影響大。大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范，須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行，以產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。
7）化妝品
無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)。化妝品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有大時才能阻塞毛孔起到止汗的作用。
8）乳劑
乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長保質(zhì)期。
9）食品
食品的原料（粉末及液體）通常來源于不同的加工廠，不同來源的原料須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動都會對食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量和質(zhì)量控制（QA/QC）的一個指標(biāo)可生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。
10）液體工作介質(zhì)/油
液體工作介質(zhì)（如：油）越來越昂貴，延長液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機械設(shè)備運轉(zhuǎn)過程中會產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中（如：油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)），因此需要一種方法來確定介質(zhì)（油）的更換周期。通過監(jiān)測工作介質(zhì)（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長其使用壽命。
11）墨水
隨著打印機技術(shù)的不斷發(fā)展，打印機用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過研磨方法制得的，可用粒度檢測分析儀器設(shè)備監(jiān)測其研磨加工過程，以墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。
12） 膠束
膠束是表面劑在溶液中的濃度過某一臨界值后，其分子或離子自動締合而成的膠體小的聚集體質(zhì)點微粒，這種膠體質(zhì)點與離子之間處于平衡狀態(tài)。
乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等
